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溅射气压和快速热退火对五氧化二钽薄膜光学性能的影响

来源:wenku7.com  资料编号:WK79189 资料等级:★★★★★ %E8%B5%84%E6%96%99%E7%BC%96%E5%8F%B7%EF%BC%9AWK79189
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资料介绍

溅射气压和快速热退火对五氧化二钽薄膜光学性能的影响(中文3100字,英文pdf)                               
摘要 采用直流反应磁控溅射技术制备了五氧化二钽薄膜,并对其进行了快速退火热处理。研究了溅射气压和退火温度对五氧化二钽的表面性能,微观结构和光学性能的影响。制备的Ta2O5薄膜为非晶结构,经过800 oC退火处理后,变为六方相结构的δ- Ta2O5。若退火温度为900-1000 oC则从六方相转变为正交相。在低温下退火氧化钽的表面粗糙度会降低。退火温度增加氧化钽薄膜的消光系数和折射率会随之下降。
关键词:五氧化二钽薄膜;直流反应磁控溅射;溅射气压;快速热退火
 

溅射气压和快速热退火对五氧化二钽薄膜光学性能的影响

 

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